要闻：中微确立存储芯片干法刻蚀行业市场地位

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中微第二代单反应腔等离子体蚀刻装置已在韩国大型客户生产线得到验证

用于20纳米以下的键闪存芯片的加工制造

上海和首尔年4月11日电/美通社/ --中微半导体设备有限企业(以下简称中微)生产第二代单反应台等离子体蚀刻设备( primo ssc ad-rie&trade； “是”。 这个设备可以用于要求最严格加工的半导体装置。 不到一年，中微的primo ssc ad-rie&trade； 蚀刻设备在韩国一家大型半导体制造公司完成了20纳米以下主要闪存芯片的生产验证。 韩国顾客正式订购，目前正在进行15纳米芯片的蚀刻验证。 迄今为止，中微双反应台蚀刻设备primo d-rie®； 虽然在许多亚洲领先的存储器芯片和逻辑芯片生产线上确立了稳固的地位，但中微这一新的蚀刻产品是primo d-rie®； 创新性。

中微是国内最先进的芯片制造高端设备公司，服务于全球半导体和led芯片制造商。 中微的研发和运营中心位于上海，全球销售和市场中心位于新加坡，其团队由来自美国硅谷和亚洲半导体设备行业的专家组成。 中微目前的技术成果标志着一个转折点:中微目前取得的里程碑式的突破，证实了中微为用户提供了具有较高竞争力的设备和技术处理方案，有能力满足顾客最先进芯片的加工要求。 更重要的是，中微处于世界蚀刻设备行业的前列，可以与美国和日本企业竞争。

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除韩国顾客外，台湾、日本和其他地区的芯片制造商也是中微的primo ssc ad-rie&trade； 显示出蚀刻装置非常有趣。 事实上，20纳米以下干蚀刻带来的巨大挑战只是消除了小蚀刻设备的供应商，而领导者占主导地位。 primo SSC安卓和贸易； 改变了这种形势，为领域提供了新的选择。 微目前正在准备晶片演示测试。 另外，企业正在与部分顾客合作开发15纳米闪存芯片加工工艺和vnand工艺。

为了支持韩国顾客，进一步在韩国地区扩展业务，中微韩国子公司计划今年在韩国当地设立研发中心。

中微理事长兼首席执行官尹志尧博士衷心感谢韩国顾客的密切合作，这种合作对先进技术课题的迅速发展是不可缺少的，中微赞成为韩国当地投资设立研发中心，更好地服务韩国当地顾客的想法，基于此， 他指出，在加快韩国本地化计划的同时，加强知识产权保护、现场产品技术创新计划和及时的现场技术支持，进一步加快了这一计划。

中微韩国区总经理ki yoon进一步证明了中微的本地化战略。 他迅速发展了韩国当地的供应商，一直在寻找可以信赖的伙伴。 他说，这样一来，顾客在韩国本土和中国建设的芯片生产线，不仅可以为韩国市场，也可以为全球市场提供更好的服务。 技术方面致力于为韩国和其他国家的顾客提供创新的技术处理方案，包括开发第三代ccp介质蚀刻装置、icp蚀刻装置和18英寸蚀刻装置。

primo ssc ad-rie是中小企业申请的注册商标。

关于中微型半导体器件有限企业

中小企业致力于向全球半导体芯片和led芯片制造商提供先进的技术和工艺，是中国大型芯片制造设备公司。 企业目前主要提供等离子蚀刻设备、硅通孔( tsv )蚀刻设备及mocvd设备，用于国际一线客户的芯片加工制造。 目前，中微已有200多个刻蚀反应台在亚洲地区许多国际领先的生产线上运行。

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